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復(fù)雜件滾鍍光亮銅錫工藝的操作條件
發(fā)布日期：2015-09-111.pH
宜控制在10.5~11.5。低時用片堿調(diào)高，高時用稀鹽酸調(diào)低。pH太高或太低時，鍍層不太光亮，有發(fā)紅和發(fā)朦的可能。
2.溫度
控制在45~55°C，最佳值為47~52°C。溫度太低時，電流較低，且陰極發(fā)黑(即使其他條件均正常)；溫度太高時，操作環(huán)境惡化，氰化鈉損失大。
3.電流密度
復(fù)雜件滾鍍光亮銅錫工藝針對復(fù)雜件而定，故電流較大。對于450L鍍槽而言，每桶若鍍20~30kg產(chǎn)品，則需電流300~350A。
4.陽極
通訊接觸件的陽極電解銅板以掛滿為好。
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