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滾鍍鍍鎳工藝

發(fā)布日期:2015-09-11

  滾鍍光亮鎳的特點(diǎn)是,鍍槽的電壓較高,如果降低鍍液中硫酸鎳和氯化鎳的濃度,鍍液的電阻增大,槽電壓升高,鍍液的溫度將隨之升高而超出工藝范圍,最后導(dǎo)致鍍液性能惡化,使鍍層質(zhì)量變差,且電鍍廠滾鍍鍍鎳成本增高。為了提高低濃度鍍鎳溶液的導(dǎo)電性,一般需要向鍍液中添加氯化鈉、硫酸鈉和硫酸鎂等導(dǎo)電鹽,這些導(dǎo)電鹽的加入,既可保證產(chǎn)品的電鍍質(zhì)量,又可降低鍍鎳成本。

  鉀鹽比鈉鹽和鎂鹽具有更好的導(dǎo)電性,為了更有效地提高鍍鎳溶液的性能,寧波宏順電子電鍍廠研制了以硫酸鉀為導(dǎo)電鹽的低濃度滾鍍光亮鎳工藝。

以硫酸鉀為導(dǎo)電鹽的低濃度滾鍍鍍鎳液
六水硫酸鎳120~150g/L
六水氯化鎳45~50g/L
硫酸鉀50~70g/L
硼酸45~50g/L
pH4.0~4.4
溫度50~55℃
槽壓10~12V

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