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電子電鍍鍍金工藝流程介紹

發(fā)布日期:2014-11-18

  1、除油

  與普通化學(xué)除油不同,除油時(shí)間僅為2~5s。這樣,普通浸漬方式的除油已不能滿足要求,需要進(jìn)行高電流密度下的多級(jí)電化學(xué)除油。對(duì)除油液的要求是:如果除油液帶入下道的水洗槽或酸洗槽中,不應(yīng)發(fā)生分解或產(chǎn)生沉淀。

  2、酸洗

  酸洗是為了除去金屬表面的氧化膜,常使用硫酸。由于電子接件對(duì)尺寸要求嚴(yán)格,所以酸洗液對(duì)基體不能有腐蝕。

  3、鍍鎳(鈀鎳)

  鍍Ni層作為鍍Au和Sn鍍層的底層,不僅提高耐蝕性,而且可防止基體的Cu與Au、Cu與Sn的固相擴(kuò)散。鍍鎳層應(yīng)具有很好的柔軟性,因電子接插件在進(jìn)行切割、彎曲加工時(shí)鍍層不應(yīng)脫落,因此最好采用氨基磺酸鎳鍍液,(鈀鎳)層可以節(jié)約部分金成本。

  4、局部鍍金

  局部鍍Au有各種方法,國(guó)內(nèi)外已申請(qǐng)了許多專利。其具體做法:

 ?、侔巡灰牟糠终谧。瑑H使需要電鍍的部分與鍍液接觸,從而實(shí)現(xiàn)局部電鍍;

  ②使用刷鍍,需要電鍍部分跟刷鍍機(jī)接觸,從而達(dá)到實(shí)現(xiàn)局部電鍍;

 ?、凼褂命c(diǎn)鍍機(jī),也可以達(dá)到實(shí)現(xiàn)局部電鍍。局部鍍Au需要考慮的問(wèn)題有:從生產(chǎn)角度考慮,應(yīng)采用高電流密度電鍍;鍍層厚度分布要均勻;嚴(yán)格控制需鍍覆的位置;鍍液應(yīng)對(duì)各種基體有通用性;維護(hù)調(diào)整簡(jiǎn)單。

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